RFL-A12000D
高功率光纤输出半导体激光器主要应用于淬火、熔覆领域。 在淬火应用中,激光是金属部件进行淬火的理想热源,可以在保持基材的冶金性能不变的前提下提升零件的耐磨性。激光可以在不使得其他区域铁素体发生相变的情况下,灵活地实现部分区域淬火。感应淬火法则无法实现区域性硬化。激光淬火一般不会引起材料翘曲,不需要通过额外的办法来校正工件的变形。 激光熔覆是一种增材制造工艺,可将材料熔化在基底上。激光熔覆工艺通常用于在重工业中使用的零部件上,激光熔覆能制造更好的新表面层,以及修复因反复使用而磨损的表面。激光束在工件表面上生成一个熔池,涂层材料同时被填充到熔池内。其产生的涂层与基体材料为金相结合,比用热喷涂法更牢固。另外,激光熔覆与镀铬相比,对身体几乎没有危害。
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技术优势
光学特性
  • 额定输出功率(W):12000
  • 工作模式:连续/调制
  • 功率调节范围(%):10~100
  • 中心波长(nm):915±10
  • 输出功率不稳度:<3%
  • 调制频率(Hz):50~5k
  • 红光指示输出功率(mW):0.25~1
输出特性
  • 输出头类型:IQD
  • 光纤芯径(μm):1000
  • 光束发散半角(rad):0.22
  • 输出光纤长度(m):20
电控特性
  • 工作电压: 三相380VAC±10%、50/60Hz交流电
  • 控制方式:上位机/AD
其他特性
  • 外观尺寸(W*H*D):1199×968×1159
  • 冷却方式:水冷
RFL-A12000D 的应用
  • 淬火
  • 熔覆
行业